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高溫熱臺

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CK-850型850度高溫熱臺

蔡康光學精密高溫溫控加熱臺/高溫熱臺主要供眾多學科(地質學、電子學、粉體包裹體、冶金學、材料學、制陶、物理學、化學、 牙科、熱分析學)領域,從事研究、分析、和觀察使用。

詳細介紹 技術參數

一、儀器用途介紹:

蔡康光學精密高溫溫控加熱臺/高溫熱臺主要供眾多學科(地質學、電子學、粉體包裹體、冶金學、材料學、制陶、物理學、化學、 牙科、熱分析學)領域,從事研究、分析、和觀察使用。與光學或電子顯微鏡配合使用,在微觀上觀察其溶化、升華、結晶過程中的狀 態和各種變化和。該儀器采用人性化“傻瓜”設計,自動化程度高,操作簡單,技術先進,性能優秀,結構新穎可靠,在該領域處于領先水平。


二、CK-850850度高溫熱臺技術參數:

詳細描述:

樣品艙

φ8×2.5 mm

φ8×4 mm

φ10×2.5 mm

φ10×4 mm

窗口至樣品距離

6mm

7.5mm

6mm

7.5mm


1)溫度范圍:室溫~850 ℃
2)觀察光孔:φ1.7 mm
3)最大升溫速率:100 ℃/min測 溫:熱電偶
4)溫度顯示精度和穩定度:1 ℃
5)實驗環境:腔體密閉,可通隋性氣氛
6) 冷卻方式:循環水冷

配套部件:循環冷卻水泵;熱臺溫度控制儀;溫度控制軟件;制箔器等

 

三、CK-850型850度高溫熱臺軟件控制曲線:




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